光刻機概念17日盤中發力走高，截至發稿，紅寶麗、興業股份漲停，華懋科技漲超8%，聚石化學、佳先股份、捷捷微電等漲超4%，上海新陽、容大感光等拉升。

消息面上，據荷蘭政府官網消息，外貿和發展部長Reinette Klever于1月15日在政府公報上宣布，2025年4月1日，荷蘭將修改其針對先進半導體制造設備的國家出口管制措施，自該日起，更多類型的技術將受到國家授權要求的約束。這項新的授權要求是自2023年9月1日推出以來，荷蘭第二次修改國家出口管制措施，本次主要是增加了一些限制的設備品類。

中信證券表示，管制涉及的技術指標與對應設備型號有較為明確的指向性，相較于之前限制的升級有限，尤其是光刻機的限制措施和2024年9月6日荷蘭政府更新的限制比沒有變化。因此，荷蘭的半導體制裁對國內整體短期增量影響有限，但長期或將會制約我國半導體節點迭代能力。從荷蘭最新的半導體設備管制清單可以歸納出荷蘭廠商當前占有領先地位的、受管制措施影響的相關領域，是國內未來有待突破的方向。核心限制環節包括：ArF浸沒式光刻機、EUV光刻機，金屬及有機金屬化合物ALD、Si和SiGe外延、低k介質PECVD、鎢/鈷/鉬/釕等金屬CVD/PVD等高端薄膜沉積等。1）光刻領域，關注國產光刻機產業鏈公司；2）薄膜沉積領域；3）量測檢測設備也是國產化率尚低、有待突破的領域。

校對：呂久彪